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京东方华灿华汇申请背光模组、发光单元及其制作方法专利,荧光粉层覆盖第一凹槽

2026年05月03日 09:38
 

国家知识产权局信息显示,京东方华灿华汇智造(广东)有限公司申请一项名为“背光模组、发光单元及其制作方法”的专利,公开号CN121594333A,申请日期为2025年11月。

专利摘要显示,本公开提供了一种背光模组、发光单元及其制作方法。所述发光单元包括:基板、支架、发光二极管芯片、齐纳芯片和荧光粉层;支架位于基板上,且沿基板的边缘设置,支架与基板相连形成第一凹槽;发光二极管芯片位于第一凹槽内,且与基板电连接,荧光粉层覆盖第一凹槽;齐纳芯片位于基板的边缘,且与基板电连接,支架覆盖齐纳芯片。

天眼查资料显示,京东方华灿华汇智造(广东)有限公司,成立于2022年,位于珠海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析,京东方华灿华汇智造(广东)有限公司参与招投标项目5次,财产线索方面有商标信息1条,专利信息27条,此外企业还拥有行政许可18个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。